ارزیابی کارآیی سلول حافظه SRAM مبتنی بر ترانزیستورهای TMDFET در مقایسه با فناوری Si-MOSFET
الموضوعات :
فرزانه ایزدی نسب
1
(دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل)
مرتضی قلی پور
2
(دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل)
الکلمات المفتاحية: 6TSRAM, حافظه دسترسی تصادفی استاتیک, ترانزیستور دی-کلکوژناید فلزات واسطه (TMDFET), تغییرات فرایند, ولتاژ و دما (PVT),
ملخص المقالة :
ترانزیستورهای دی-کلکوژناید فلزات واسطه (TMDFET) از جمله افزاره‌های نوظهور هستند که در سال‌های اخیر مورد توجه محققین قرار گرفته اند. در این مقاله ابتدا اثر تغییر پارامترها، دما و منبع تغذیه بر عملکرد ترانزیستورهای TMDFET در مقایسه با تکنولوژی Si-MOSFET مورد بررسی قرار گرفته است، نتایج بیانگر میزان حساسیت کمتر TMDFET به این تغییرات در مقایسه با افزارهSi-MOSFET است. در ادامه با انتخاب مناسب نسبت‌‌‌های ابعاد ترانزیستورها، به ارزیابی کارآیی سلول حافظه دسترسی تصادفی استاتیک شش-ترانزیستوری پایه مبتنی بر TMDFET در مقایسه با فناوری Si-MOSFET در تکنولوژی 16nm پرداخته شده است. شبیه‌سازی‌‌ها در دمای اتاق، ولتاژ تغذیه 0.7 ولت و شرایط یکسان برای هر دو افزارهTMDFET و Si-MOSFET در نظر گرفته شده است. نتایج حاصل از شبیه‌سازی‌‌ها نشان می‌دهند که SRAM مبتنی برترانزیستورTMDFET دارای 44/29%WTP بیشتر و به همین نسبت توانایی نوشتن بیشتر، 49/49% WTI×WTV بیشتر و به همین نسبت حاشیه نویز نوشتن بالاتر و 48/29% تاخیر خواندن کمتر است.بهعبارتدیگریک سلول SRAM مبتنی بر TMDFET از نظر توانایی نوشتن، حاشیه نویز استاتیکی خواندن وتاخیرخواندن عملکرد بهتری نسبت بهSi-MOS-SRAM از خود نشان می‌‌دهد.
[1] J. D. Plummer and B. P. Griffin, "Material and process limits in silicon VLSI technology," Proceedings of the IEEE, vol. 89, no. 3, pp. 240-258, Mar. 2001.
[2] A. A. Kumar and C. Anu, "Performance analysis of 6T SRAM cell on planar and FinFET technology," in Proc. IEEE Int. Conf. on Communication and Signal Processing, ICCSP'19, pp. 0375-0379, Chennai, India, 4-6 Apr. 2019.
[3] P. K. Patel, M. M. Malik, and T. K. Gupta, "Performance evaluation of single-ended disturb-free CNTFET-based multi-Vt SRAM," Microelectronics J., vol. 90, pp. 19-28, Jun. 2019.
[4] E. Abbasian and M. Gholipour, "A variation-aware design for storage cells using Schottky-barrier-type GNRFETs," J. of Computational Electronics, vol. 19, no. 3, pp. 987-1001, 2020.
[5] C. H. Yu, P. Su, and C. T. Chuang, "Impact of random variations on cell stability and write-ability of low-voltage SRAMs using monolayer and bilayer transition metal dichalcogenide (TMD) MOSFETs," IEEE Electron Device Letters, vol. 37, no. 7, pp. 928-931, Jul. 2016.
[6] C. H. Yu, P. Su, and C. T. Chuang, "Performance and stability benchmarking of monolithic 3-D logic circuits and SRAM cells with monolayer and few-layer transition metal dichalcogenide MOSFETs," IEEE Trans. on Electron Devices, vol. 64, no. 5, pp. 2445-2451, May 2017.
[7] M. Gholipour, Y. Y. Chen, and D. Chen, "Compact modeling to device-and circuit-level evaluation of flexible TMD field-effect transistors," IEEE Trans. on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, vol. 37, no. 4, pp. 820-831, Apr. 2017.
[8] A. J. Wilson and A. D. Yoffe, "The transition metal dichalcogenides discussion and interpretation of the observed optical, electrical and structural properties," Advances in Physics, vol. 18, no. 73, pp. 193-335, 1969.
[9] K. S. Novoselov, et al., "Two-dimensional atomic crystals," Proc. of the National Academy of Sciences, vol. 102, no. 30, pp. 10451-10453, 2005.
[10] A. Ayari, E. Cobas, O. Ogundadegbe, and M. S. Fuhrer, "Realization and electrical characterization of ultrathin crystals of layered transition-metal dichalcogenides," J. of Applied Physics, vol. 101, no. 1, Article No.: 014507, 2007.
[11] H. S. S. Ramakrishna Matte, et al., "MoS2 and WS2 analogues of graphene," Angewandte Chemie International Edition, vol. 49, no. 24, pp. 4059-4062, Jun. 2010.
[12] B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti, and A. Kis, "Single-layer MoS 2 transistors," Nature Nanotechnology, vol. 6, no. 3, pp. 147-150, 2011.
